UV-F總結(jié)現(xiàn)實(shí)辦案現(xiàn)場(chǎng)中集中出現(xiàn)的多種疑難足跡情況——諸如被背景圖案淹沒的足跡，高反射表面的足跡，以及很多看得見卻拍不到（拍不好）的足跡等，創(chuàng)新設(shè)計(jì)了“傾斜成像加激光矯正（IILC）”的獨(dú)特掃描技術(shù)，使得大部分常見疑難足跡都能得以清晰呈現(xiàn)。主要特點(diǎn)：疑難足跡的提?。焊邔?duì)比度、復(fù)雜花紋圖案表面的足跡；高反射材質(zhì)表面的足跡；只能傾斜觀察可見的足跡。高信噪比：大幅度抑制客體背景信息，提高足跡圖像的信噪比。多采集模式：根據(jù)灰塵足跡、水漬足跡、血足